|
|
|
¡ã °¼ºÈ£ µàÆùÄÚ¸®¾Æ ´ëÇ¥ |
[µ¥ÀÌÅͳÝ] µàÆùÄÚ¸®¾Æ´Â 10¿ù 1ÀÏÀÚ·Î °»óÈ£ »çÀåÀÌ µàÆù ÀüÀÚ&À̹Ì¡±×·ì »êÇÏ ¹ÝµµÃ¼ »ç¾÷ºÎ ±Û·Î¹ú ÃÑ°ý´ëÇ¥·Î ÃëÀÓÇß´Ù°í ¹àÇû´Ù.
µàÆùÄÚ¸®¾Æ »çÀå°ú ÀüÀÚ&À̹Ì¡ ±×·ì »êÇÏ µð½ºÇ÷¹ÀÌ »ç¾÷ºÎ ±Û·Î¹ú ÃÑ°ýÁ÷À» ¿ªÀÓÇÏ°í ÀÖ´ø °»óÈ£ »çÀåÀº µàÆùÄÚ¸®¾Æ »çÀåÁ÷°ú µàÆù ÀüÀÚ&À̹Ì¡ ±×·ì »êÇÏ ¹ÝµµÃ¼ ±Û·Î¹ú »ç¾÷ºÎ ´ëÇ¥Á÷À» °âÀÓÇÏ°Ô µÈ´Ù.
µàÆùÀÇ ¹ÝµµÃ¼ »ç¾÷ºÎ´Â °í°´ °ü°è, ±â¼ú ¼öÁØ, ½ÃÀå ¹üÀ§¿¡¼ Àü ¼¼°è ÁýÀûȸ·Î(IC) ¼ÒÀç ½ÃÀåÀ» ÁÖµµÇÏ°í ÀÖ´Ù. °»óÈ£ »çÀåÀº ¹ÝµµÃ¼ ±Û·Î¹ú »ç¾÷ºÎ ´ëÇ¥·Î¼ ÷´Ü Á¦Ç°À¸·Î ±¸¼ºµÈ ±¤¹üÀ§ÇÑ Æ÷Æ®Æú¸®¿À¿¡ °ÉÄ£ »ç¾÷ Àü·«À» À̲ø°Ô µÈ´Ù.
ÇØ´ç Æ÷Æ®Æú¸®¿À¿¡´Â Ãʹ̼¼°¡°ø(microlithography) ¼ÒÀç, ÈÇбâ°è¿¬¸¶(CMP) Æеå¿Í ½½·¯¸®, ¼¼Á¤ ¾àÇ°, ÀüÀÚ»ê¾÷¿ë ½Ç¸®ÄÜ, ÷´Ü ¹ÝµµÃ¼ ÆÐŰ¡ ¹× ¾î¼Àºí¸® ¼ÒÀç µîÀÌ Æ÷ÇԵŠÀÖ´Ù.
°»óÈ£ »çÀåÀº ÇѾç´ë¿¡¼ ¹«±âÀç·á°øÇÐ Çлç ÇÐÀ§¸¦ ¹Þ¾ÒÀ¸¸ç, KAIST¿¡¼ MBA¸¦ ÃëµæÇß´Ù. 1998³âºÎÅÍ ·Ò¿£ÇϽº, ´Ù¿ìÄɹÌÄ®À» °ÅÄ¡¸ç ÀüÀÚÀç·á ºÐ¾ß¿¡¼ ´Ù¾çÇÑ °æ·ÂÀ» ½×¾Ò´Ù.
ÀÔ»ç Ãʱâ 7³â µ¿¾È »ï¼ºÀüÀÚ¸¦ ´ã´çÇÏ¸ç ¿µ¾÷ ¹× ¸¶ÄÉÆà ºÐ¾ß¿¡¼ ´Ù¾çÇÑ Á÷Ã¥À» ¸Ã¾ÒÀ¸¸ç, 2005³âºÎÅÍ´Â ±Û·Î¹ú ¸¶ÄÉÆà ¸Å´ÏÀú·Î 2³â°£ Si-ARC¿Í ¸Þ¸ð¸® ºÎ¹®ÀÇ ¸¶ÄÉÆÃÀ» ´ã´çÇß´Ù. 2007³â¿¡´Â ¹Ì±¹¿¡¼ Àü·«Àû ¾îÄ«¿îÆ® ¸Å´ÏÀú·Î ÀçÁ÷ÇÏ¸ç ¸¶ÀÌÅ©·Ð, IM Ç÷¡½Ã, »ï¼º ¿À½ºÆ¾ µî ºÏ¹Ì Áö¿ªÀÇ ¸Þ¸ð¸® °í°´À» ´ã´çÇß´Ù.
±×´Â 2009³â Çѱ¹À¸·Î µ¹¾Æ¿Í 2013³â±îÁö µð½ºÇ÷¹ÀÌ »ç¾÷ºÎ¿¡¼ ±Û·Î¹ú ¿µ¾÷ÆÀ°ú ¸¶ÄÉÆÃÆÀÀ» Â÷·Ê·Î À̲ø¾ú°í, 2013³â¿¡´Â ´Ù¿ì º£Æ®³² ´ëÇ¥Á÷°ú ž籤 Çʸ§ »ç¾÷ºÎÀåÀ» °âÀÓÇß´Ù.
°»óÈ£ »çÀåÀº 2016³âºÎÅÍ ÀüÀÚ&À̹Ì¡±×·ì »êÇÏ µð½ºÇ÷¹ÀÌ »ç¾÷ºÎ ±Û·Î¹ú ÃÑ°ýÁ÷À», 2018³âºÎÅÍ µàÆùÄÚ¸®¾Æ »çÀåÁ÷À» °âÀÓÇØ ¿Ô´Ù. |